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LINDA横浜油脂_MG_无机碱性清洗剂

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产品名称: LINDA横浜油脂_MG_无机碱性清洗剂

产品型号: MG

产品厂商: 岩濑商事

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简单介绍

LINDA横浜油脂_MG_无机碱性清洗剂 LINDA横浜油脂_MG_无机碱性清洗剂

LINDA横浜油脂_MG_无机碱性清洗剂 的详细介绍

LINDA横浜油脂_MG_无机碱性清洗剂

ガラス基板用洗浄剤

中性洗浄剤

洗浄物に対して影響が少なく、レンズ、光学部品、精密部品の洗浄にも使用可能。

製品名	使用温度	使用濃度	pH	特長
M-1	常温～40℃	1～10%	6.5 (原液)	非イオンタイプ。油分、研削剤、塵埃などの汚れを乳化分散、除去。
M-2	常温～80℃	1～10%	7.2 (原液)	非イオン、アニオン併用タイプ。高温での洗浄が可能で、優れた洗浄力を長期維持。
M-4	常温～40℃	1～10%	8.4 (原液)	非イオンタイプ。洗浄力に優れ、特に油分に対して強力な洗浄力を発揮。
M-LO	常温～40℃	1～10%	6.0 (原液)	非イオンタイプ。成分中にイオン性物質を含まず、低泡性でブラシ洗浄に使用可能。

無機アルカリ性洗浄剤

成膜時の膜の密着性を向上。低泡性でブラシ洗浄に使用可能。

製品名	使用温度	使用濃度	pH	特長
L.G.L	常温～60℃	1～5%	11.7 (2%)	特殊界面活性剤、特殊キレート剤を配合し高い洗浄力を発揮。
KG	常温～60℃	1～5%	11.9 (2%)	指紋、オイルミストなどの油分を強力に洗浄し、優れたリンス性を発揮。
RPG-1	常温～50℃	1～5%	12.2 (2%)	分散性が高く、研磨剤などの微小なパーティクル除去に*適。
NA-1	常温～60℃	1～5%	12.2 (2%)	成分中にリンを含まず、洗浄剤残渣も簡単に溶解。
MG	常温～60℃	1～5%	12.4 (2%)	非常に優れた洗浄力があり、研磨剤、紙ヤケなどを簡単に短時間で除去。
SD	常温～60℃	1～5%	12.5 (2%)	高い洗浄力があり、特にパーティクルの除去に*適。

有機アルカリ性洗浄剤

成分中にアルカリ金属を含まず、アルカリ金属を嫌う部材の洗浄に*適。

製品名	使用温度	使用濃度	pH	特長
LC-2	常温～60℃	2～10%	10.4 (10%)	高い洗浄力があり、TFT用ガラス基板の受け入れ洗浄に*適。
MF-2	常温～60℃	1～10%	12.0 (2%)	成膜時、膜の密着性が向上し、TFT用ガラス基板の成膜前の洗浄に*適。

酸性洗浄剤

ガラス基板、レンズ、その他光学部品、水晶などに付着した研磨剤の除去。

製品名	使用温度	使用濃度	pH	特長
DS-S	常温～60℃	0.5～2%	2以下 (1%)	有機酸を使用し、研磨剤、ガラスカレットを強力に除去。

アルミ膜基板用洗浄剤
アルミ反射膜、アルミ電極の洗浄。

製品名	使用温度	使用濃度	pH	特長
A-1	常温～50℃	2～5%	11.6 (2%)	レジスト残渣や金属イオンなどを除去。低泡性でブラシ洗浄に使用可能。
A-2	常温～50℃	2～5%	11.6 (2%)	リンス性の優れたアルカリタイプ。BOD・CODが低く、排水処理コストを軽減。

ポリイミド配向膜用洗浄剤
ラビング後のパーティクルの除去。

製品名	使用温度	使用濃度	pH	特長
RB-1	常温～60℃	5%	中性	ラビングで生じるパーティクルを除去し、特に優れたリンス性を発揮。

国内免费咨询专线：4008-933-365

_无机碱性清洗剂

LINDA横浜油脂_NA-1_无机碱性清洗剂

ガラス基板用洗浄剤

中性洗浄剤

洗浄物に対して影響が少なく、レンズ、光学部品、精密部品の洗浄にも使用可能。

製品名	使用温度	使用濃度	pH	特長
M-1	常温～40℃	1～10%	6.5 (原液)	非イオンタイプ。油分、研削剤、塵埃などの汚れを乳化分散、除去。
M-2	常温～80℃	1～10%	7.2 (原液)	非イオン、アニオン併用タイプ。高温での洗浄が可能で、優れた洗浄力を長期維持。
M-4	常温～40℃	1～10%	8.4 (原液)	非イオンタイプ。洗浄力に優れ、特に油分に対して強力な洗浄力を発揮。
M-LO	常温～40℃	1～10%	6.0 (原液)	非イオンタイプ。成分中にイオン性物質を含まず、低泡性でブラシ洗浄に使用可能。

無機アルカリ性洗浄剤

成膜時の膜の密着性を向上。低泡性でブラシ洗浄に使用可能。

製品名	使用温度	使用濃度	pH	特長
L.G.L	常温～60℃	1～5%	11.7 (2%)	特殊界面活性剤、特殊キレート剤を配合し高い洗浄力を発揮。
KG	常温～60℃	1～5%	11.9 (2%)	指紋、オイルミストなどの油分を強力に洗浄し、優れたリンス性を発揮。
RPG-1	常温～50℃	1～5%	12.2 (2%)	分散性が高く、研磨剤などの微小なパーティクル除去に*適。
NA-1	常温～60℃	1～5%	12.2 (2%)	成分中にリンを含まず、洗浄剤残渣も簡単に溶解。
MG	常温～60℃	1～5%	12.4 (2%)	非常に優れた洗浄力があり、研磨剤、紙ヤケなどを簡単に短時間で除去。
SD	常温～60℃	1～5%	12.5 (2%)	高い洗浄力があり、特にパーティクルの除去に*適。

有機アルカリ性洗浄剤

成分中にアルカリ金属を含まず、アルカリ金属を嫌う部材の洗浄に*適。

製品名	使用温度	使用濃度	pH	特長
LC-2	常温～60℃	2～10%	10.4 (10%)	高い洗浄力があり、TFT用ガラス基板の受け入れ洗浄に*適。
MF-2	常温～60℃	1～10%	12.0 (2%)	成膜時、膜の密着性が向上し、TFT用ガラス基板の成膜前の洗浄に*適。

酸性洗浄剤

ガラス基板、レンズ、その他光学部品、水晶などに付着した研磨剤の除去。

製品名	使用温度	使用濃度	pH	特長
DS-S	常温～60℃	0.5～2%	2以下 (1%)	有機酸を使用し、研磨剤、ガラスカレットを強力に除去。

アルミ膜基板用洗浄剤
アルミ反射膜、アルミ電極の洗浄。

製品名	使用温度	使用濃度	pH	特長
A-1	常温～50℃	2～5%	11.6 (2%)	レジスト残渣や金属イオンなどを除去。低泡性でブラシ洗浄に使用可能。
A-2	常温～50℃	2～5%	11.6 (2%)	リンス性の優れたアルカリタイプ。BOD・CODが低く、排水処理コストを軽減。

ポリイミド配向膜用洗浄剤
ラビング後のパーティクルの除去。

製品名	使用温度	使用濃度	pH	特長
RB-1	常温～60℃	5%	中性	ラビングで生じるパーティクルを除去し、特に優れたリンス性を発揮。

国内免费咨询专线：4008-933-365

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LINDA横浜油脂_MG_无机碱性清洗剂

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