在半导体制造的超净车间中，湿法刻蚀、清洗等核心工序的药液浓度，是决定晶圆良率、控制生产成本的关键命脉。KURABO仓纺 ChemicAlyzer Ace-3（KIS-A）系列高性能在线近红外浓度计，凭借其专为半导体洁净室优化的一体化设计、高稳定性与精准检测能力，为先进制程的药液浓度管控提供了可靠支撑。同时作为 Ace Ⅱ 的**升级机型，以突破性的多通道检测能力、**的测量精度与稳定的运行性能，重新定义洁净制程的浓度监测标准，成为高阶制程场景的优选设备。
一、核心定位：旗舰级多通道在线浓度监测设备
ChemicAlyzerAce-3（KIS-A）是仓纺高性能浓度计系列的旗舰机型，专为半导体晶圆清洗、蚀刻、CMP 制程及精密电子制造等对洁净度、浓度精度要求严苛的场景设计。设备采用近红外透射光谱测量原理，通过专用光学滤镜实现多波长同步检测，可连续、实时监测药液浓度，兼顾多任务处理能力与操作便捷性，**适配高阶制程的复杂监测需求。
二、核心技术规格参数
产品类型：近红外在线浓度计（高性能一体型，适配半导体洁净车间）
测量原理：近红外透射法，搭载专用光学滤镜，支持多波长同步检测
装置尺寸：W250 × D330 × H282mm
装置重量：约 15kg
电源规格：DC24V 100W
设置环境：场所为半导体制造工厂洁净室或同等场所，周围温度 20~30℃（无冷凝）
安装方式：机架式 / 壁挂式，适配洁净车间有限空间布局
信号输出：支持标准工业信号输出，可无缝对接 PLC 与 MES 系统，实现数据实时传输与远程监控
三、五大核心优势，铸就洁净制程精度标杆
1、多药液适配，多通道同步监测
单机支持*多 8 种药液的浓度测定（可选配置），搭载多检测通道系统，可同时对多种工艺药液进行在线监测；支持4 种混合成分同步浓度计算，精准分析复杂混合药液中的多组分含量，适配 SC-1、SC-2、SPM、HF、H₃PO₄等半导体常用清洗液、蚀刻液及 CMP 药液。
2、超高精度，**稳定测量
光学单元采用恒温控制设计，搭配内置药液温度控制器，彻底消除环境温度波动对测量结果的影响，测量稳定性拉满；为每种药液优化专属测量波长，单机独立校准，机间误差极小，测量精度可达 ±0.1%，可精准捕捉微量浓度波动，满足严苛工艺的精密控制需求。
3、高速响应，实时数据输出
*短测量时间仅2 秒，可快速反馈浓度变化，适配药液浓度动态波动的制程场景；支持 DC4-20mA 标准信号输出，搭配集电极开路输出（READY、BUSY、设备错误、上下限报警等），可无缝对接 PLC 与 MES 系统，实现数据实时传输、远程监控与异常报警，助力工艺自动化管控。
4、一体化紧凑设计，适配洁净空间
测量单元与数据处理单元集成一体，尺寸 W250×D330×H282mm，重量约 15kg，结构紧凑，节省洁净车间宝贵空间；接口集中于前面板，操作简便，维护便捷，适配半导体制造工厂洁净室及同等高标准环境。
5、低维护高耐久，长期降本增效
采用非接触式光学测量，无需试剂、无易损件，大幅减少日常维护与耗材支出；设备核心部件经过严苛测试，设计寿命长，支持长期稳定运行，助力企业长期降低运行成本。
四、应用场景：覆盖半导体湿法制程全场景
Ace-3（KIS-A）系列广泛应用于半导体晶圆清洗、刻蚀、电镀、抗蚀剂剥离、药液再生等核心湿法工序，同时适配液晶面板、精密电子、电池材料等领域的洁净生产场景。在清洗工序中，可稳定监测 SC-1、SC-2 等药液浓度，提升晶圆洁净度；在刻蚀工序中，精准控制 BOE、HF 等药液浓度，保障刻蚀均匀*；在药液再生环节，实现精准配比与循环利用，降低生产成本、减少废液排放。
五、总结
KURABO仓纺 ChemicAlyzer Ace-3（KIS-A 系列）高性能浓度计，以近红外光谱精密测量、恒温稳定控制、多组分同步分析、耐腐蚀集成设计为核心，实现了测量精度、运行稳定性、场景适配性的****。作为**制程药液浓度管控的标杆设备，其不仅解决了传统离线检测的痛点，更以低维护、高兼容、易集成的优势，适配半导体、平板显示、新能源等多行业自动化产线需求，为全球**制造的品质提升、成本降低、效率优化提供了可靠的技术支撑。
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