日本仓纺（KURABO）ChemicAlyzer Ace-3（KIS-A 系列）
产品型号：KIS-2IPA-A、KIS-2C2H5OH-A、KIS-2TMAH-A、KIS-2H2SO4-A、KIS-2HF-A、KIS-2NH4F-A、KIS-2H3PO4-A、KIS-2NaOH-A、KIS-2KOH-A、KIS-2HCI-A、KIS-2H2O2-A等
在线式药液浓度计，是仓纺旗下*高性能的旗舰级多通道检测设备，作为 Ace Ⅱ 的升级后继机型，兼具多任务处理能力与**的操作便捷性，专为半导体、精密电子制造等高阶制程场景打造。
该设备的核心优势体现在其多药液适配能力上，单机可支持*多 8 种药液的浓度测定，并搭载多检测通道系统，能同时对多种工艺药液进行在线监测，大幅减少设备数量，优化产线布局。同时，它支持*多 4 种成分的同时浓度计算，可精准分析复杂混合药液中的多组分含量，适配半导体清洗液、蚀刻液等复杂制程药液的检测需求，是仓纺药液浓度计系列中性能较好的型号之一。
在设计上，Ace-3 充分考虑了工业现场的操作与维护便利性。它采用简化式按键面板，操作直观易懂，即使是初次接触的人员也能快速上手；同时将所有接口集中于一处，仅需从设备前方即可完成全部连接与调试工作，大幅降低了安装、维护的难度，减少了产线停机时间。
性能方面，设备适配 20~40℃的药液温度环境，可覆盖半导体制造中绝大多数工艺段的温度条件。机身尺寸仅为 W250×D330×H282mm，重量 15kg，结构紧凑轻巧，可轻松嵌入产线机柜或设备旁，适配不同产线的空间布局，为高密度、高集成度的产线环境提供了理想的检测方案。
作为 Ace Ⅱ 的后继机型，Ace-3 具备良好的互换性，可无缝替代老款设备，降低产线升级的改造成本。它广泛应用于晶圆制造中的酸碱清洗液、蚀刻液浓度控制，后道工艺再生药液回收管理，以及平板显示、光伏硅片清洗、精细化工等领域的多组分溶液在线分析，是兼顾高性能、高集成度与操作便捷性的旗舰级药液浓度检测方案。
应用行业
1. 半导体与微电子（核心领域）
晶圆制造：抗蚀剂剥离液、蚀刻液（氧化膜 / 氮化膜）、酸碱清洗液浓度控制。
后道工艺：再生药液回收浓度管理、清洗药液配比精准控制，降低废品率，提升良率。
平板显示（LCD/OLED）：面板清洗、光刻、蚀刻工序药液浓度监测。
晶体谐振器 / 电子元件：精密清洗与蚀刻药液浓度稳定控制。
2. 新能源与电池材料
锂电池制造：电解液、电极浆料溶剂浓度监测，保障电池一致性与**性。
光伏太阳能：硅片清洗液、制绒药液浓度控制，提升光电转换效率。
3. 精细化工与食品发酵
精细化工：反应釜物料浓度、萃取 / 精馏过程组分在线分析，优化反应效率，减少副产物。
食品饮料：清酒、醋、酱油发酵过程糖度 / 酒精度监测，稳定产品风味与品质。
4. 其他行业制造
光学元件：镜片研磨液、清洗液浓度控制，保证表面光洁度。
医疗器械：高纯清洗药液浓度监测，符合医疗级洁净要求。
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